Напыление углеродом / металлами для высокоразрешающих TEM / SEM анализов, таких как:
- реплики
- крио SEM
- рентгеновский микроанализа (EDX — энергодисперсионного элементного анализа, WDX — волнодисперсионного элементного анализа).
В состав комплекса входит интегрированная система криопереноса Leica EM VCT100, совместимая с установленным сканирующим микроскопом
Tescan MIRA3, позволяющая осуществлять перенос препарата в вакууме при криогенной температуре без контаминации между сканирующим электронным микроскопом и системой замораживания-скалывания и напыления.
Ручная или автоматическая подача ножа шаговым двигателем - в диапазоне от 1 мкм до 40 мкм;
Универсальный нож с прецизионным позиционированием, позволяющий работать одновременно с тремя образцами;
Два независимо управляемых электронно-лучевых источника для создания многослойных реплик за один цикл;
Электронное управление углами пучков источников - от 0° до 90°;
Низкий угол затенения для высокачественного покрытия очень малых структур, таких как ДНК – до 0°;
Вращение образцов во время нанесения покрытия;
Предварительная настройка отдельных параметров электронных пучков испарителей;
Использование напыления Pt-C, Ta-W, Cr, Pt-Ir-C или C;
Точный автоматический контроль толщины пленки и прекращения напыления – регулируется до 1 нм;
Функции запоминания параметров для нанесения не менее 5-ти слоев с независимыми значениями толщины;
Программируемая последовательность нанесения нескольких слоев покрытия;
Встроенная библиотека для нескольких материалов покрытия;
Активная насосная система непрерывной дозированной подачи жидкого азота без колебаний температуры
Турбомолекулярный и мембранный насос с прецезионной диафрагмой для создания "безмасляного" вакуума
Глубокий вакуум с контролем и отображением параметров на дисплее
Механизм предохранения образцов от загрязнений
Сублимация при низкой температуре вплоть до температуры жидкого азота.
Функция быстрой подачи LN2 (жидкого азота) в реакционную зону
Программируемые параметры нанесения покрытия
Светодиодная подсветка
Стереомикроскоп для наблюдения за пробоподготовкой образца:
- общее увеличение в диапазоне от 3.2х до 20х;
- поле на объекте в диапазоне от 11.5 мм до 71.9 мм.
Дополнительно: ссылка на сайт компании производителя
http://www.leica-microsystems.com/products/electron-microscope-sample-preparation/industrial-materials/freeze-etchingfracture/details/product/leica-em-baf060/ 
